產品概述

徠卡 MICA 全場景顯微成像分析平臺 共聚焦

徠卡MICA全場景顯微成像分析平臺是一款集成了寬場成像和共聚焦成像技術的先進顯微鏡系統。該平臺通過創新的設計和技術，為科研工作者提供了全新的顯微成像體驗。

共聚焦顯微鏡作為MICA平臺的重要組成部分，具有優勢。共聚焦顯微鏡利用放置在光源（激光）后的照明針孔和放置在檢測器前的探測針孔，實現點照明和點探測。光源通過照明針孔發射出的光聚焦在樣品焦平面的某個點上，該點所發射的熒光成像在探測針孔內。焦平面以外的任何發射光均被探測針孔阻擋，從而能夠清晰地獲得焦平面上的熒光信號。

在MICA平臺中， 徠卡 MICA 全場景顯微成像分析平臺 共聚焦的應用得到了進一步的提升。通過計算機控制，共聚焦顯微鏡能夠以像點的方式將被探測點顯示在計算機屏幕上，由光路中的掃描系統在樣品焦平面上掃描，從而產生一幅完整的共焦圖像。這種技術不僅提高了軸向的清晰度和側向分辨率，而且能夠屏蔽次級熒光，使圖像質量得到顯著提升。

此外，MICA平臺還集成了環境培養控制系統，能夠在密閉箱式空間內實現樣品的寬場和共聚焦成像。這種設計不僅保證了成像的穩定性，而且能夠方便地觀察活的細胞或組織。高度自動化和智能化的設計使得操作者可以輕松設置圖像通道，獲得高質量的圖像結果。

總之，徠卡MICA全場景顯微成像分析平臺通過集成寬場和共聚焦成像技術，為科研工作者提供了全新的顯微成像解決方案。該平臺不僅具有高度的自動化和智能化特點，而且能夠提供高質量的圖像結果，為科學研究提供了有力的支持。